¿Cuál es el papel y el propósito de la limpieza de APM en el flujo del proceso optoelectrónico? ¿Cuáles son los pasos generales del proceso antes y después de la limpieza de APM?

La solución de APM consiste en una cierta proporción de solución de NH4OH y solución de H2O2. Debido a la oxidación del H2O2, se forma una película de óxido (aproximadamente 6 nm es hidrófila) en la superficie de la oblea de silicio. es corroído por NH4OH Inmediatamente después de la corrosión, la oxidación ocurre nuevamente, y la oxidación y la corrosión continúan repetidamente, por lo que las partículas y el metal adheridos a la superficie de la oblea de silicio también caen en la solución de limpieza junto con la capa de corrosión. Aquí se produce amoníaco gaseoso y amoníaco residual.