¿Cuál es la diferencia entre ICP y RIE?

RIE: Una sola fuente de radiofrecuencia no puede lograr un grabado con bajo daño a una velocidad de grabado adecuada. La presión de trabajo es alta, lo que no favorece el control de la morfología del grabado. La densidad del plasma es baja y alta. No se pueden obtener tasas de grabado.

ICP: dos fuentes de radiofrecuencia independientes pueden lograr un grabado de alta velocidad y con bajo daño. La presión de trabajo es baja, lo que favorece el control de la morfología y la densidad del plasma es alta.